Cercetatorii perfectioneaza o metoda pentru producerea de cipuri mai mici. Ingredientul cheie este apa.

Bruce Smith, profesor in ingineria microelectronica la Institutul Tehnologic Rochester, a declarat ca prin utilizarea unui firicel de apa pe o placa de silicon in acelasi fel in care sunt gravate liniile de circuit pe un cip, instrumentele litografice pot produce circuite pana la un nivel de 45 nanometri, utilizand capacitatile refractante ale apei.

Apa s-a dovedit a fi un lichid ideal doarece nu produce o reactie cu multe dintre materialele si lichidele utilizate in mod obisnuit in producerea semiconductorilor, iar datorita proprietatilor sale refractante atinge acelasi lungime de unda utilizata de instrumentele de gravare in procesul de fabricare.

Cei mai multi cercetatori au crezut ca instrumentele cu lungimi de unda mai mici sunt necesare pentru producerea de cipuri pentru generatia de 65 nanometri. De fiecare data cand industria trece la un nou instrument litografic, trebuie sa treaca printr-un proces indelungat si costisitor, pentru a se asigura ca noile instrumente vor functiona cu materialele existente si pentru a inlatura orice problema care ar putea apare.
Producatorii de cipuri vor trebui sa investeasca in noi instrumente care pot furniza apa intr-o linie ferma si in sisteme de purificare , pentru a se asigura ca apa nu va contamina placuta de silicon si vor putea utiliza aceeasi generatie de lasere si echipamente optice.

Dar raman cateva provocari caroara industria trebuie sa le faca fata, cum ar fi necesitatea eliminarii defectelor in procesul de productie. In acest moment se cunosc putine date despre litografia de imersiune pentru a cunoaste exact ceea ce trebuie facut pentru a transpune aceasta tehnica din laborator pe platformele de productie.

Intel si IBM asteapta noile instrumente litografice de imersiune, ce vor fi funizate catre sfarsitul acestui an de catre producatori precum Nikon Precison, Canon si ASML Lithography Holding. Companiile vor experimenta litografia imersibila in prima parte a anului 2005 si vor decide daca si unde isi va gasi locul in planurile viitoare de fabricatie.