Cercetatorii japonezi au creat design-uri 26 nanometer, potrivit unui articol prezentat de Nikkei Business Daily. Potrivit ziarului, guvernul japonez a sponsorizat New Energy and Industrial Technology Development Organisation (NEDO) pentru a crea un design 26 nanometer. Acum cercetatorii japonezi vor incerca sa demonstreze ca noul proces va putea fi utilizat pentru productia in masa, utilizandu-se tehnologia Extreme Ultraviolet (EUV). NEDO este rezultatul eforturilor unui puternic consortiu format din 11 producatori de cipuri, numit Selete. Cercetatorii organizatiei au utilizat un sistem EUV creat de Canon pentru a crea linii de 26 nanometri pe un segment de 5mm a unui substrat de siliciu. Potrivit articolului, productia in masa de semiconductori utilizand aceste tehnologii va incepe in 2011.