Compania Mentor Graphics anunta validarea rezultatelor aplicatiei sale Calibre LFD (litho-friendly design) pe cipuri cu tehnologie de 65 nm. Un articol redactat impreuna de Infineon Technologies si Chartered Semiconductor Manufacturing prezinta avantajele ce rezulta din implementarea unui flux de verificare a procedeelor litografice cu ajutorul aplicatiei Calibre LFD de la Mentor Graphics. Calibre LFD permite analiza calitatii unui proiect "DRC (design rule check) clean" prin simularea efectelor variatiilor reale ale procedeelor litografice. Utilizat de la inceputul ciclului de proiectare, acest instrument permite identificarea zonelor critice (hot spot -uri) ce se afla la originea defectelor sistematice. Calibre LFD utilizeaza modele de procese validate in productie, care furnizeaza nivelul de precizie necesar pentru realizarea cu incredere a modificarilor. Chartered colaboreaza cu Mentor din martie 2006 la realizarea unui kit de productie LFD. Acest articol, intitulat "Hardware Verification of Litho-Friendly Design (LFD) Methodologies [6521-20]", a fost prezentat in februarie 2007 in cadrul simpozionului SPIE Advanced Lithography si a fost redactat de o echipa formata din experti de la Infineon si Chartered (Reinhard März, Kai Peter, Sonja Gröndahl si Klaus Keiner de la Infineon Technologies AG; si Byoung Il Choi, Shyue Fong Quek, Mei Chun Yeo, Nan Shu Chen si Soo Muay Goh de la Chartered). (continuarea in Agora )